外观：密闭槽体+控制面板，用于精密去除镜片、透镜表面污渍。
应用：实验室、医疗器械、光学元件制造。
激光清洗设备
外观：集成激光头与精密运动平台，无接触清除涂层或污染物。
应用：航天器件、半导体晶圆清洁。
等离子清洗机
外观：真空腔体+气体输入装置，通过等离子体处理表面微尘。
应用：电子元件、光学镀膜前处理。
- 内容详情
设备
原理：利用高频超声波在液体中产生的空化效应，形成微小气泡冲击污染物，实现无死角清洁。
特点：适用于批量清洗小型精密元件（如镜片、晶圆），但对表面复杂结构或有胶合层的元件需谨慎。
流程：放入清洗槽→加入专用清洗液→超声波处理→漂洗→干燥。
功能特征
模块化设计
1. 可更换清洗槽、适配不同夹具（如晶圆夹盘、镜片治具）。
2. 支持扩展功能（如清洗+烘干一体化）。
高效干燥系统
1. 热风循环、氮气吹干或真空干燥，确保无水渍残留。
2. 干燥效率：镜片表面湿度≤50ppm（百万分之一）。
光学清洗设备三种不同技术类型对比
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特征 |
超声波清洗机 |
激光清洗机 |
等离子清洗机 |
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清洗方式 |
液体空化作用 |
高能激光脉冲 |
等离子体化学反应 |
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适用对象 |
小型精密元件（镜片、晶圆） |
脆性材料、复杂形状表面 |
金属、陶瓷、高分子材料 |
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优势 |
成本低、批量处理 |
无接触、超精准 |
表面改性+清洁一体化 |
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典型应用 |
实验室、医疗器械清洗 |
半导体、航天器件 |
电子封装、光学镀膜前处理 |
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